光固化3D打印是由摩方精密自主研發(fā)的超高精度微尺度3D打印系統(tǒng)。設(shè)備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術(shù)，是目前行業(yè)極少能實(shí)現(xiàn)超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統(tǒng)。

一、光固化3D打印產(chǎn)品介紹

設(shè)備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術(shù)，該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng)，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢(shì)，被認(rèn)為是目前最有前景的微納加工技術(shù)之一。

二、光固化3D打印基本參數(shù)

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：硬性樹脂、耐高溫樹脂、韌性樹脂、生物兼容性樹脂等

光學(xué)精度：2μm

打印層厚：5-20μm

打印尺寸：

①模式一：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（單投影模式）

②模式二：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）

③模式三：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重復(fù)陣列模式）

文件格式：STL

系統(tǒng)外形尺寸：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量：550kg

電氣要求：200-240V AC,50/60HZ,3kW

三、應(yīng)用領(lǐng)域

nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統(tǒng)可廣泛應(yīng)用于力學(xué)超材料、生物醫(yī)療、微機(jī)械結(jié)構(gòu)、微流控、三維復(fù)雜仿生結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域。

作為微納3D打印行業(yè)，在三維復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納加工領(lǐng)域，BMF Material團(tuán)隊(duì)擁有超過二十年的科研經(jīng)驗(yàn)，針對(duì)客戶在項(xiàng)目研究中可能出現(xiàn)的工藝和材料難題，我們將持續(xù)提供簡(jiǎn)易高效的技術(shù)支持方案。